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光刻機的分類描述

更新時間:2021-04-25      點擊次數(shù):2623
光刻機的分類描述
光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。
光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動
1、手動:指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn),對準(zhǔn)精度可想而知不高了;
2、半自動:指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧;
3、自動: 指的是 從基板的上載下載,曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。 
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